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焦作平面钼靶材 焦作宽幅钼靶材

2018-08-10 16:42    
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其他冶金矿产
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详情描述

钼靶 密度10.2/立方厘米。熔点2610℃。沸点5560℃。

钼靶材纯度:99.9% 99.99%

规格:圆形靶,板靶,旋转靶

钼靶材广泛用于导电玻璃、STN/TN/TFT-LCD、光学玻璃、离子镀膜等行业,适用所有平面镀膜及旋转镀膜系统。

纯度:纯钼≥99.95%,高温钼≥99%(添加稀土元素)

密度:≥10.2g/cm3

熔点:2610

供货状态:成品态

规格:根据客户要求定制

生产工艺流程:

钼坯(原材料)-检验-热轧--碱洗-冷轧-校平-机械加工-检验-包装

包装方式:木箱包装

工期:定制15天内交货(库存随时发货)。

发货方式:快递或物流(可协商)

费:供应商承担。

后期服务:保质期内如出现质量问题,供方承担所有责任(正常使用范围内)。

钼材料适用环境:真空环境或惰性气体保护环境,纯钼较高耐高温1200度,钼合金较高耐高温1700度。

钼材料的适用行业及用途:钼材料主要用在真空高温行业,电子行业,蓝宝石热场及航空航天制造行业等,钼材料经过变形量达到60%以上的轧制加工后,钼的密度基本上接近于理论密度,因此其具有高强度,内部组织均匀和优良的抗高温蠕变性能,被广泛应用于生产蓝宝石晶体生长炉内的反射屏,盖板真空炉内的反射屏,发热带,连接件,等离子镀膜用的溅射靶材,耐高温舟皿等制品。

公司:洛阳高新四丰电子材料有限公司

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